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> 山田 直臣
(最終更新日 : 2024-09-27 13:20:47)
ヤマダ ナオオミ
YAMADA Naoomi
山田 直臣
所属
工学部 応用化学科
大学院工学研究科 応用化学専攻
先端研究センター 薄膜研究センター
先端研究センター
職名
教授
業績
学歴
所属学会
現在の専門分野
研究テーマ
著書・論文歴
学会発表
講師・講演
受賞学術賞
科研費研究者番号
researchmap研究者コード
外部研究者ID
学歴
東京大学大学院 工学系研究科 博士 (工学)
所属学会
~
応用物理学会
~
日本表面真空学会
(財)総合研究奨励会 透明酸化物光・電子材料研究会
∟ 運営委員
~
化学工学会
全件表示(6件)
現在の専門分野
固体化学, Thin film electronic materials, 環境調和型薄膜電子材料 キーワード(薄膜、太陽電池、スパッタリング)
研究テーマ
Thin films for sustainable-energy, thin film photovoltaics
薄膜材料を用いた太陽光エネルギーの有効利用に関する研究
著書・論文歴
著書
三元系疑似III-V族窒化物半導体の物性制御 セラミックデータブック 2021/22,58-62頁 (単著) 2021
著書
透明導電膜の基礎と新たな展開 塗布型透明導電膜の材料開発と成膜・パターン形成技術 (共著) 2015
著書
TiO
2
系透明導電膜のスパッタ成膜技術と低抵抗化 光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御 (共著) 2013
論文
Decomposition behavior of GaN under solid and ambient N
2
pressure Materials Letters 374,137185 (共著) 2024
論文
Fabrication of conductive Nb-doped anatase TiO
2
thin films by mist chemical vapor deposition using aqueous solutions of water-soluble Ti and Nb compounds Jpn. J. Appl. Phys. 63,045504 (共著) 2024
全件表示(98件)
学会発表
2024/09
ベイズ最適化を活用したGaN薄膜のスパッタ成長 (第85回 応用物理学会秋季学術講演会)
2024/09
ミスト化学気相堆積法で作製したNbドープTiO2薄膜の膜構造と溶媒の関係 (第85回 応用物理学会秋季学術講演会)
2024/09
導電性NbドープTiO
2
薄膜のミスト化学堆積法におけるNb源の検討 (第85回 応用物理学会秋季学術講演会)
2024/09
真空蒸着法によるCuBiI
4
薄膜の作製と評価 (第85回 応用物理学会秋季学術講演会)
2024/09
第16元素ドーピングによるCuIの導電性増大 (第85回 応用物理学会秋季学術講演会)
全件表示(191件)
講師・講演
2022/12
透明導電膜の基礎と要求特性 、 材料動向 、 性能指数での 材料比較
2022/07
「II-Sn-N
2
系窒化物の高圧合成と薄膜化プロセス
2022/02
基礎から学ぶ、スパッタリング法入門 ~成膜メカニズムから、効果的な条件設定・ 最適化、分析手法、成膜事例まで~
2020/12
透明導電膜の基礎と現状から性能指数を用いた各材料の比較・評価まで
2019/10
基礎から学ぶスパッタリング法~成膜メカニズムから、効果的な条件設定・最適化、分析手法、成膜事例まで~
全件表示(13件)
受賞学術賞
2019/10/07
11th International symposium on transparent oxide thin films for electronics and optics Best Poster Award ("Transparent p-n Diodes Based on widegap p-type Cuprous Halides".)
2014/03
永井科学技術財団 平成25年度財団賞 「奨励賞」 (「あたらしい透明導電体の開発」)
2007/05/22
5th International symposium on transparent oxide thin films for electronics and optics Best Poster Award ("Sputter deposition of Nb-doped TiO<sub>2</sub> (TNO) polycrystalline films for a transparent conductive oxide")
科研費研究者番号
50398575
researchmap研究者コード
B000237157
外部研究者ID
ORCID ID
0000-0003-0185-3577
Researcher ID
I-1609-2014