教員情報 - 山田　直臣 | 中部大学

（最終更新日 : 2026-09-15 17:56:46）

ヤマダ　ナオオミ YAMADA Naoomi
山田　直臣

所属

工学部応用化学科

大学院工学研究科応用化学専攻

先端研究センター

職名教授

学歴・学位
	東京大学大学院工学系研究科博士 (工学)

所属学会
～	応用物理学会
～	日本表面真空学会
	(財)総合研究奨励会　透明酸化物光・電子材料研究会
	∟ 運営委員
～	化学工学会
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現在の専門分野
固体化学, Thin film electronic materials, 環境調和型薄膜電子材料キーワード(薄膜、太陽電池、スパッタリング)

研究テーマ
Thin films for sustainable-energy, thin film photovoltaics
薄膜材料を用いた太陽光エネルギーの有効利用に関する研究

著書・論文歴
著書	三元系疑似III-V族窒化物半導体の物性制御セラミックデータブック 2021/22,58-62頁 (単著) 2021
著書	透明導電膜の基礎と新たな展開塗布型透明導電膜の材料開発と成膜・パターン形成技術 (共著) 2015
著書	TiO₂系透明導電膜のスパッタ成膜技術と低抵抗化光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御 (共著) 2013
論文	Low Interfacial Contact Resistance between Carbon-based Gas Diffusion Layer and Sputter-deposited Anatase TiO₂ Jounal of Physical Chemistry C (共著) 2026/08/13
論文	Thin Films of Rutile-Type GeO₂ Fabricated via Solid-Phase Crystallization under High Pressure Japanese Journal of Applied Physics (共著) 2026/05/04
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学会発表
2026/09/15	(招待講演) Decoupling sputter-deposition parameters using interpretable machine learning: a case study on transparent conducting films (2026年日本表面真空学会学術講演会 (JVSS2026))
2026/09/11	Cu/Bi比を変えたCuBiI₄薄膜のp型キャリアの生成起源 (2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会)
2026/09/11	Sn(II)ドーピングによるCuIの正孔濃度増大 (2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会)
2026/09/11	ペロブスカイト型太陽電池の正孔輸送層に向けたCuI_1-xBr_x組成傾斜膜 (2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会)
2026/09/10	NbドープTiO₂薄膜の輸送特性をラマンスペクトルから予測する (2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会)
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講師・講演
2022/12	透明導電膜の基礎と要求特性、材料動向、性能指数での材料比較
2022/07	「II-Sn-N₂系窒化物の高圧合成と薄膜化プロセス
2022/02	基礎から学ぶ、スパッタリング法入門～成膜メカニズムから、効果的な条件設定・最適化、分析手法、成膜事例まで～
2020/12	透明導電膜の基礎と現状から性能指数を用いた各材料の比較・評価まで
2019/10	基礎から学ぶスパッタリング法～成膜メカニズムから、効果的な条件設定・最適化、分析手法、成膜事例まで～
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受賞学術賞
2019/10/07	11th International symposium on transparent oxide thin films for electronics and optics Best Poster Award ("Transparent p-n Diodes Based on widegap p-type Cuprous Halides".)
2014/03	永井科学技術財団平成25年度財団賞　「奨励賞」 (「あたらしい透明導電体の開発」)
2007/05/22	5th International symposium on transparent oxide thin films for electronics and optics Best Poster Award ("Sputter deposition of Nb-doped TiO<sub>2</sub> (TNO) polycrystalline films for a transparent conductive oxide")

e-Rad研究者番号
50398575

researchmap会員ID
B000237157

外部研究者ID
ORCID iD
0000-0003-0185-3577
Researcher ID
I-1609-2014